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【公開特許】
2020年11月11日現在で、弊社が所有している特許
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特許 第5437648号
出願日 2009年1月21日
公開日 2010年8月10日
(クリックで拡大します)
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●縦型鋳造装置及び鋳造方法 (150万円)相談に応じます
【目的】
空気、酸化皮膜等の巻き込みがより少なく、従来のダイカスト法
又は低圧鋳造法より高品質な鋳造品をより低コストで製造できる
鋳造法及び装置を提供する。
【効果】
減圧吸引する方法に比べて鋳型空隙内への空気又はガスの
侵入の可能性をより低減することができる上、減圧吸引する
場合よりも低コスト化を図ることができる。出発材料を鋳型に導入に
先立って副生物を取り除くので、より高品質の鋳造体を製造する
ことができる。
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特許 第5319893号
出願日 2007年3月6日
公開日 2008年9月18日 (クリックで拡大します)
装置の全体図 |
●高真空吸引鋳造装置 (200万円)相談に応じます
【目的】
ガスや酸化皮膜等の巻き込み欠陥が極めて少ない高品質
鋳造品を経済的かつ省エネルギー的に製造できる鋳造法
および装置を提供する。
【効果】
鋳型空隙部をストークと独立に減圧できるため、鋳型空隙部を
容易に高真空にできる。鋳型空隙部を高真空にすることで、
ガスの巻き込みがなくなるだけでなく、湯面の酸化が少なく
酸化皮膜の巻き込みも少なくなる。
装置は小型で装置コストが低く、使用エネルギーも少ない。
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